사업소개
사업소개
- 설비 SET-UP
- 업체 최고 수준의 기술을 자랑하는 반도체 세정 및 PHOTO공정 설비 SET-UP
LOTUS
1X급(19nm) 대응 차세대 매엽식 세정설비
- Process Performance
- High speed robot technology
- High grade process : 19nm particle removal
- High temperature SPM process over 150℃
- Productivity / Hardware
- Customized chamber configuration : 6, 9 or 12 chambers
- Defect free technology
- User-convenience feature : Vision inspection, tool matching
- Equipment analysis and diagnosis system
- 설비 개조
- 품질과 납기로 고객에게 만족을 드리는 설비 개조 작업
IRIS
300mm Wafer의 표면 및 이면 처리가 가능한 매엽식 세정설비로 다양한 공정에 대응 가능 합니다.
- Process Performance
- First single wafer cleaning/etching equipment
- Sheet-fed type 300mm wafer surface abd back cleaning device
- Various physical cleaning process : sonic, aerosol, brush
- Productivity/Hardware
- Excellent price competitiveness for performance
- 설비 이설
- 안전하게 고객을 위한 반도체설비 이설 및 해체 작업
OMEGA-K PLUS
KrF Inline 공정 대응 차세대 Photo 설비
- Process Performance
- i-Line / KrF pattering process (DRAM, V-NAND, Logic)
- Particle free robot system
- Chemical flow auto feed-back control
- Productivity/Hardware
- Throughput : 273 WPH(in-line)
- Equipment condition analysis and self-diagnostic functions
- Auto teaching system of transfer robot